HORIBA堀场四极杆质量分析仪

• 极其紧凑的尺寸和轻量化
  的 1/20th与传统的残余气体分析仪相比，尺寸小，易于集成到任何系统中

• 由 9 个四极杆组成的高性能
  微型阵列提供出色的灵敏度，而体积仅为传统四极杆的一小部分

• 高压作
  可在高达 0.9Pa （7mTorr， 9 x 10-3mbar），从而减少或消除许多应用中昂贵的真空抽气

• 校准
  中的可互换传感器头 传感器头在发货前经过预调谐和校准，允许用户在现场更换传感器，而无需微调或技术专业知识

• 网络传感器
  使用 RS-485 的一台 PC *多可以监控 8 个传感器。还可以通过外部 I/O 进行无 PC 的扫描作。

• 用户友好的软件
  Micropole Scanner™ 2 软件允许用户以各种模式监测气体的分压，例如趋势图、光谱图、条形图。

测量原理

四极杆质量分析仪由离子源、质量离子检测器组成。残余气体与高温细丝释放的热电子碰撞时被电离，由此产生的离子加速并汇聚到质量过滤器上。在质量过滤器上，将不同的直流电和 RF 施加到电极（四极杆）上，从而允许离子按质量分离。分离的离子被法拉第杯检测为电流。离子电流与残余气体的分压成正比。

微极TM分析器

使四极杆质量分析仪****的功能是 MICROPOLETM分析器 （MPA）;由九个四极杆组成的组合，充分利用了超精密光学蚀刻加工技术和玻璃/金属接合技术。MPA 的开发催生了四极杆质量分析仪，这是世界上*小的残余气体分析仪，同时提供与传统的大型质谱仪相同或更好的灵敏度。分析器是一个插件单元。它采用的传感器单元已针对分压进行了校准，并提供**总压和分压测量。

应用

腔室状态监测

Microople System QL 系列由于其紧凑性而长期用于测量残留气体。在金属溅射工艺中，必须降低氧基气体的分压，以避免溅射金属氧化。一旦腔室暴露在空气中进行维护，需要时间来减少残留气体，四极杆质量分析仪适用于检查腔室状况。

 

等离子体过程监测

四极杆质量分析仪具有一种用于等离子体过程的原位过程监测技术，包括蚀刻、溅射和干洗。在通过反应溅射沉积透明导电氧化物薄膜的过程中，氧基气体的控制对于透明度和导电性都至关重要。近年来，半导体工艺的复杂性需要额外的工艺监控工具，以缩短设备启动时间并检测工艺异常。

外形尺寸 （mm）

规格
微极系统
频谱发生器

* 以下传感器规格基于 400ms m/z 单位的扫描速度。
* 包括基于 Windows 10 及更高版本的配置和数据采集软件。


传感器

* SMPA 型传感器由真空接头上的网状保护，旨在延长传感器在等离子体工艺等恶劣环境中的使用寿命。

*1 Q 质量数信号输出饱和的压力。超过此压力时，信号输出可能与实际压力不对应。

*2 可作的上限压力。如果工作压力超过极限压力，测量可能会停止以保护传感器。